等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離子(zi)化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組織分包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

等離子清洗機的工作原(yuan)理：

等(deng)離子(zi)(zi)體是物質(zhi)(zhi)的(de)(de)一(yi)種存(cun)(cun)在(zai)(zai)狀態(tai)(tai)(tai)，通(tong)常物質(zhi)(zhi)以固(gu)態(tai)(tai)(tai)、液(ye)態(tai)(tai)(tai)、氣態(tai)(tai)(tai)三種狀態(tai)(tai)(tai)存(cun)(cun)在(zai)(zai)，但在(zai)(zai)一(yi)些特(te)殊的(de)(de)情況(kuang)下(xia)有第四種狀態(tai)(tai)(tai)存(cun)(cun)在(zai)(zai)，如地球大氣中電(dian)離層中的(de)(de)物質(zhi)(zhi)。等(deng)離子(zi)(zi)體狀態(tai)(tai)(tai)中存(cun)(cun)在(zai)(zai)下(xia)列物質(zhi)(zhi)：處于(yu)高速運動狀態(tai)(tai)(tai)的(de)(de)電(dian)子(zi)(zi)；處于(yu)激活狀態(tai)(tai)(tai)的(de)(de)中性原(yuan)(yuan)子(zi)(zi)、分(fen)子(zi)(zi)、原(yuan)(yuan)子(zi)(zi)團（自由基）；離子(zi)(zi)化的(de)(de)原(yuan)(yuan)子(zi)(zi)、分(fen)子(zi)(zi)；未(wei)反應的(de)(de)分(fen)子(zi)(zi)、原(yuan)(yuan)子(zi)(zi)等(deng)，但物質(zhi)(zhi)在(zai)(zai)總體上仍保持電(dian)中性狀態(tai)(tai)(tai)。

在真空腔體(ti)里，通過射頻電源在一定的(de)壓力(li)情況下起(qi)輝產生(sheng)高(gao)能量(liang)的(de)無序的(de)等離(li)子(zi)體(ti)，通過等離(li)子(zi)體(ti)轟擊被清洗(xi)產品表面．以達到清洗(xi),樣品表面改(gai)性之目的。

等(deng)離子體的種類：

活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)和(he)不(bu)(bu)活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)等(deng)離子(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)，根據產(chan)生等(deng)離子(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)時應用的氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)的化(hua)學(xue)性質不(bu)(bu)同，可(ke)分為(wei)不(bu)(bu)活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)等(deng)離子(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)和(he)活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)等(deng)離子(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)兩類(lei)(lei)，不(bu)(bu)活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)如氬氣(qi)(qi)(qi)（Ar）、氮氣(qi)(qi)(qi)（N2）、氟化(hua)氮（NF3）、四氟化(hua)碳（CF4）等(deng)，活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)如氧氣(qi)(qi)(qi)（O2）、氫氣(qi)(qi)(qi)（H2）等(deng)，不(bu)(bu)同類(lei)(lei)型的氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)在清洗過(guo)程中(zhong)的反(fan)應機理是不(bu)(bu)同的，活(huo)(huo)(huo)潑(po)(po)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)的等(deng)離子(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)具有(you)更強(qiang)的化(hua)學(xue)反(fan)應活(huo)(huo)(huo)性

等(deng)離子清洗機 機理分析

通(tong)俗的(de)講就是(shi)：等離子體(ti)(ti)清(qing)洗的(de)機理，主(zhu)要是依靠等離子體(ti)(ti)中(zhong)活(huo)性粒子的(de)“活化作(zuo)用”達(da)到去除物體表面污漬(zi)的目的。

等(deng)離子清(qing)洗/刻(ke)蝕(shi)機(ji)產(chan)生等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)裝(zhuang)置(zhi)是在密(mi)封(feng)容器(qi)中(zhong)設置(zhi)兩個電(dian)極形成(cheng)電(dian)場，用真(zhen)空(kong)泵實現一定(ding)的(de)(de)(de)(de)真(zhen)空(kong)度，隨(sui)著氣(qi)體(ti)(ti)愈(yu)來愈(yu)稀薄(bo)，分(fen)子間距及分(fen)子或(huo)離(li)(li)(li)(li)(li)子的(de)(de)(de)(de)自由運動距離(li)(li)(li)(li)(li)也愈(yu)來愈(yu)長，受(shou)電(dian)場作用，它們發生碰撞而形成(cheng)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子體(ti)(ti)，這(zhe)些(xie)離(li)(li)(li)(li)(li)子的(de)(de)(de)(de)活(huo)性很(hen)高，其能(neng)量足以(yi)破壞幾乎所(suo)有(you)的(de)(de)(de)(de)化(hua)學鍵，在任何暴露(lu)的(de)(de)(de)(de)表面引起反應(ying)，不同氣(qi)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子體(ti)(ti)具有(you)不同的(de)(de)(de)(de)性能(neng)，如(ru)氧氣(qi)的(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子體(ti)(ti)具有(you)很(hen)高的(de)(de)(de)(de)氧化(hua)性，能(neng)氧化(hua)光(guang)刻(ke)膠反應(ying)生成(cheng)氣(qi)體(ti)(ti)，從而達到清(qing)洗(xi)的(de)(de)(de)(de)效果；腐蝕(shi)性氣(qi)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)(de)等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子體(ti)(ti)具有(you)很(hen)好的(de)(de)(de)(de)各向異(yi)性，這(zhe)樣就(jiu)能(neng)滿足刻(ke)蝕(shi)的(de)(de)(de)(de)需要。利(li)用等(deng)(deng)(deng)離(li)(li)(li)(li)(li)子處理時會發出輝光(guang)，故(gu)稱之為(wei)輝光(guang)放電(dian)處理

詳細的來解釋：電(dian)漿與材料表面可產生的反(fan)(fan)應主要有兩種，一種是(shi)靠(kao)自由基來做化學反(fan)(fan)應，另一種則是(shi)靠(kao)等(deng)離子作(zuo)物(wu)理反(fan)(fan)應，以(yi)下(xia)將作(zuo)更具體的說明

（1）化學反應（Chemical reaction）--高頻電源—低電場---大概(gai)60V左右激(ji)發

     在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4？）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基,這些(xie)自由(you)基會進一(yi)步與材(cai)料表(biao)面作反應,其反應(ying)機理主要是利(li)用等離子(zi)體里的自由基來與(yu)材料表面(mian)做化學反應(ying)，在壓力較(jiao)高時，對自由基的產生較(jiao)有利(li)，所以若要以化學反應(ying)為(wei)主時，就必須控制較(jiao)高的壓力來近進(jin)行反應(ying)

（2）物(wu)理反應（Physical reaction）--低頻(pin)電源--高電場---大概1000V左(zuo)右激發

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子的共價鍵(jian)打開，由于離子在壓力較低時的均勻自由基較輕長，形(xing)成(cheng)能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有利于撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較低的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好